Ảnh minh hoạ: SMIC
Một công ty được Chính phủ Trung Quốc hậu thuẫn có trụ sở tại Thượng Hải đã bắt đầu sản xuất hàng loạt các máy quang khắc DUV ngâm (immersion DUV) và dự kiến sẽ bàn giao những thiết bị đầu tiên ngay trong năm nay cho SMIC, Hua Hong Semiconductor và ChangXin Memory Technologies (CXMT).
Thông tin này do The Information đăng tải ngày 27/7 dựa trên thông tin cung cấp bởi hai nguồn am hiểu trực tiếp về chương trình phát triển liên quan của Trung Quốc.
Theo các nguồn tin, mục tiêu sản xuất của công ty là khoảng 5 máy trong năm 2026 và tăng lên khoảng 20 máy vào năm 2027.
Điều đáng chú ý là cả ba doanh nghiệp nhận lô máy đầu tiên đều nằm trong danh sách các công ty Trung Quốc mà một dự luật đang được Quốc hội Mỹ xem xét sẽ cấm ASML bán thiết bị mới cũng như cung cấp dịch vụ bảo trì, hỗ trợ kỹ thuật theo quy định của pháp luật.
The Information không nêu tên nhà sản xuất, nhưng cho biết công ty này đã tập hợp các nhóm nghiên cứu và phát triển công nghệ DUV từ nhiều doanh nghiệp Trung Quốc khác nhau, trong đó có Shanghai Yuliangsheng Technology, một công ty khởi nghiệp được nhà nước Trung Quốc hỗ trợ.
Về phần mình, SMIC đã bắt đầu thử nghiệm một máy quang khắc DUV ngâm do Yuliangsheng chế tạo từ tháng 9/2025.
Phần lớn các linh kiện sử dụng trong hệ thống mới đều được sản xuất trong nước, mặc dù một số bộ phận quan trọng vẫn phải nhập khẩu từ Nhật Bản. Bên cạnh đó, sự chậm trễ của các nhà cung cấp nội địa cũng đã ảnh hưởng đến tiến độ sản xuất trong năm nay.
Dự luật H.R.8170 của Hạ viện Mỹ đưa SMIC, Hua Hong, CXMT, Huawei và YMTC vào danh sách các thực thể bị hạn chế theo luật định.
Đáng chú ý, ba trong số năm doanh nghiệp này chính là những khách hàng đầu tiên của máy quang khắc DUV do Trung Quốc tự phát triển.
Dự luật MATCH Act, được trình lên Quốc hội Mỹ vào tháng 4, đã được Ủy ban Đối ngoại Hạ viện thông qua ngày 22/4 và hiện cũng đã có phiên bản tương ứng tại Thượng viện với mã số S.4281.
Các quy định của dự luật liên quan đến máy quang khắc DUV ngâm không chỉ cấm xuất khẩu thiết bị mới mà còn cấm cả việc cung cấp dịch vụ bảo trì, sửa chữa và hỗ trợ kỹ thuật, đồng nghĩa với việc các máy DUV của ASML đã được lắp đặt tại các nhà máy sản xuất chip ở Trung Quốc cũng sẽ không còn được bảo dưỡng hoặc hỗ trợ kỹ thuật.
Điều này mở rộng đáng kể phạm vi tác động của các biện pháp kiểm soát, đặc biệt khi trong hai năm qua các nhà máy bán dẫn Trung Quốc đã tìm cách kéo dài tuổi thọ của số máy ASML hiện có thông qua việc nâng cấp linh kiện và mua phụ tùng từ các kênh trung gian.
Trong cuộc họp công bố kết quả kinh doanh tháng 7, Giám đốc Tài chính ASML Roger Dassen cho biết công ty dự kiến sẽ bàn giao khoảng 130 hệ thống quang khắc DUV ngâm trong năm 2026, tương đương với số lượng của năm 2025.
Ông Dassen cũng cho biết ASML có kế hoạch tăng công suất sản xuất thêm 30% trong năm 2027 và đang xem xét khả năng tiếp tục tăng thêm khoảng 30% nữa vào năm 2028.
Trung Quốc hiện chiếm khoảng 20% doanh thu thuần của ASML trong năm nay, giảm đáng kể so với 33% trong năm 2025, chủ yếu do nhu cầu đối với các dòng chip logic phổ thông suy giảm.
Máy quang khắc DUV ngâm có khả năng tạo ra các cấu trúc mạch ở tiến trình khoảng 28 nanomet chỉ với một lần chiếu (single exposure).
Nếu áp dụng kỹ thuật quang khắc nhiều lần (multipatterning), công nghệ này có thể hỗ trợ sản xuất chip ở mức 7 nanomet, nhưng phải đánh đổi bằng việc sai số căn chỉnh giữa các lớp mạch (overlay error) tăng lên và tỷ lệ sản phẩm đạt chuẩn (yield) giảm xuống.
Trong cùng cuộc họp, Tổng Giám đốc ASML Christophe Fouquet cho biết cường độ sử dụng công nghệ quang khắc trong sản xuất bộ nhớ DRAM ngày càng tăng, một phần do nhiều khách hàng đang chuyển từ kỹ thuật quang khắc nhiều lần bằng DUV sang công nghệ EUV chỉ cần một lần chiếu, giúp giảm chi phí sản xuất.
Một nghiên cứu độc lập do AI Futures Project công bố vào tháng 6 dự báo rằng Trung Quốc sẽ chỉ có khả năng sản xuất thương mại máy quang khắc DUV ngâm ở quy mô lớn vào khoảng giữa thập niên 2030.
Báo cáo cũng cho biết ASML hiện vẫn nắm giữ khoảng 98,7% thị phần toàn cầu đối với máy quang khắc DUV ngâm.
Các chuyên gia nhận định rằng việc đưa các máy quang khắc mới của Trung Quốc vào vận hành chính thức trên dây chuyền sản xuất có thể mất nhiều tháng để đánh giá và chứng nhận, đồng thời hiệu năng và chất lượng chế tạo của chúng vẫn còn khoảng cách đáng kể so với các thiết bị của ASML.
Đối với máy quang khắc EUV do Trung Quốc tự phát triển, Reuters từng đưa tin vào tháng 12 năm ngoái rằng nước này đã chế tạo được một nguyên mẫu hoạt động, tuy nhiên công nghệ này vẫn còn cách nhiều năm nữa mới có thể bước vào giai đoạn thương mại hóa.